• 名称（微纳）电感耦合等离子体刻蚀系统ICP
• 资产编号1700768N
• 型号
• 规格PlasmaPro System100/1 ICP180
• 产地英国
• 厂家Oxford
• 所属品牌
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位通用平台（用户注册不要选择）
• 使用性质科研
• 所属分类刻蚀设备
• 联系人常晓阳 齐廉浩
• 联系电话15095403938，13167536270
• 联系邮箱
• 放置地点B1-B02

主要规格及技术指标

牛津仪器PlasmaPro System100/1 ICP180，当前设备支持4inch，向下兼容，也可扩展至6inch，支持光谱OES断点监控，支持低温/高温刻蚀工艺，刻蚀均匀性小于5%。

主要功能及特色

感应耦合等离子体刻蚀机利用射频电源将气体激发启辉，形成高浓度的等离子体。通过RF射频形成电场及自偏压，使等离子体能够进行各向异性刻蚀。调节ICP、RF射频功率/压力/温度等参数可以实现不同形貌与角度的刻蚀，同时也能够做到高精度与快速刻蚀；设备包含的工艺气体有：Ar/CF4/SF6/NH3/O2/CHF3/H2/CH3OH/BCl3/C4F8，可对金属、介质材料、化合物半导体材料进行刻蚀，具体工艺信息请电话沟通。

设备使用相关说明(收费标准)

校内价格720元/小时，校外价格1200元/小时