• 名称（微纳）电子束蒸发镀膜系统
• 资产编号ABC12351
• 型号DZS-500型
• 规格DZS-500型
• 产地
• 厂家
• 所属品牌
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位通用平台（用户注册不要选择）
• 使用性质科研
• 所属分类
• 联系人范志强 刘菓
• 联系电话17801205509，18513766016，13277337202
• 联系邮箱
• 放置地点B1-B02

主要规格及技术指标

沈阳科仪DZS-500型，极限真空5E-4Pa，4坩埚配置，样品台标准配置2inch可扩展，样品台水制冷，坩埚尺寸直径36mm，高度22mm，倾角20度，石墨或坞坩埚。

主要功能及特色

电子束蒸发是物理气相沉积的一种，在真空条件下利用电磁场精准控制高能电子轰击坩埚内蒸发料，使蒸发料气化并向基片输运，进而在基片上凝结形成薄膜。
设备通过晶振精确控制膜层厚度，基片基本垂直正对蒸发源，制成的薄膜精度高、均匀性好，对于具有一定立体结构的基片，沉积的薄膜不会或很少覆盖在结构侧壁，具有很好的方向性，适宜与lift-off工艺结合使用；设备内置4个坩埚位，可实现多种不同蒸发料的同炉连续蒸镀，沉积形成所需的多层金属结构；电子束蒸发已广泛应用于各类微电子、光电子器件、MEMS等工艺中，特别是器件电极制备的必需工艺设备。可实现p电极、n电极、源漏电极、栅电极、引出电极等多种器件电极结构的制备。也可满足部分金属、化合物（ITO等氧化物）、光学薄膜等膜层的镀膜。

备注

校外用户600元/小时