• 名称（微纳）无掩膜光刻机
• 资产编号ABC12373
• 型号Microlab
• 规格Microlab
• 产地
• 厂家
• 所属品牌
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位通用平台（用户注册不要选择）
• 使用性质科研
• 所属分类光刻设备
• 联系人柳洋 郑天宁 韦钧天 郭新航 郭琦
• 联系电话18701363677，13581737178，13241183403，18861481610
• 联系邮箱
• 放置地点B1-B02

主要规格及技术指标

曝 光 光 源：405nm LED 1W（不支持SU-8）
最小加工线宽：1μm（50X物镜）
曝光写入速度：10 mm2/min @ 1 μm
最大直写面积：6 inch，向下兼容
套刻对准精度：±0.5μm
支持文件格式： GDSII；BMP

主要功能及特色

采用数字微镜芯片技术，无须掩模版，同时兼具了较高的光刻精度和速度，方便定制化图形和可变图形的曝光。

样本检测注意事项

平整表面曝光，能旋涂光刻胶即可。曝光参数跟光刻胶种类，基片表面状态都有影响，具体工艺参数仅供参考