• 名称（微纳）磁控溅射
• 资产编号S2213155
• 型号维开M600
• 规格8英寸镀膜
• 产地中国
• 厂家维开
• 所属品牌维开
• 出产日期
• 购买日期
• 所属单位通用平台（用户注册不要选择）
• 使用性质科研
• 所属分类镀膜设备
• 联系人刘嘉宁 范志强 徐文欣
• 联系电话15871354012,18513766016，13950019594
• 联系邮箱zhiqiangf@buaa.edu.cn
• 放置地点B1-B02

主要规格及技术指标

★设备极限真空5E-5Pa；
★设备支持4个可调角度的4寸靶枪，其中2个配置强磁场靶；
★最大8寸或3个4寸片，向下兼容，载盘0-20转/分钟可调；
★镀膜均匀性：±3%；
★镀膜重复性：批次间重复性±2%
★设备支持基片加热从室温至500℃
★设备配置有射频电源和直流电源，可沉积金属和非金属；
★配置两路气体Ar和O2可实现富氧沉积。

主要功能及特色

两个靶枪可溅射导磁性材料。设备配置自动传样腔，从传样到5E-4Pa时间小于15分钟。目前配置靶有：钛、铜、钨、镍、铬 、钽、钴、碲、铝、铁酸铋、ITO、IGZO、镍铁合金、Ag、Mo、Pt。

样本检测注意事项

镀膜前请先沟通靶材等事宜，不接受培训申请，只能委托加工，不镀有毒物质！！！！！！

设备使用相关说明(收费标准)

磁控设备镀膜按次收费，只接受委托加工，校内价格为540元/次、校外900元/次（镀膜时间且需小于1小时），当镀膜时长每超过1小时，增加计算一炉次，如提出更换靶材需另加校内600元/次，校外1000元/次。使用Pt靶材，校内价格每10nm/30元，校外价格每10nm/50元。

备注

设备只接受委托加工，委托加工联系人刘嘉宁15871354012，刘芳竹13126695699，该设备不接受培训申请！