(微纳)磁控溅射 (维开M600-委托加工)
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设备型号 :维开M600-委托加工
当前状态 :
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负责人 :范志强 , 常晓阳 , 刘嘉宁 , 刘芳...
联系人 :刘嘉宁 刘芳竹 范志强 常晓阳 15871354012,13167536270,18513766016
放置地点 :通用平台(用户注册不要选择) > B1-B02
IP地址 : 48:3F:DA:6E:E3:BB
- 名称(微纳)磁控溅射
- 资产编号bq vkckjs
- 型号维开M600-委托加工
- 规格
- 产地中国
- 厂家维开
- 所属品牌维开
- 出产日期
- 购买日期
- 所属单位通用平台(用户注册不要选择)
- 使用性质科研
- 所属分类镀膜设备
- 联系人刘嘉宁 刘芳竹 范志强 常晓阳
- 联系电话15871354012,13167536270,18513766016
- 联系邮箱
- 放置地点B1-B02
主要规格及技术指标
★设备极限真空5E-5Pa;★设备支持4个可调角度的4寸靶枪,其中2个配置强磁场靶;
★最大8寸或3个4寸片,向下兼容,载盘0-20转/分钟可调;
★镀膜均匀性:±3%;
★镀膜重复性:批次间重复性±2%
★设备支持基片加热从室温至500℃
★设备配置有射频电源和直流电源,可沉积金属和非金属;
★配置两路气体Ar和O2可实现富氧沉积。